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真空鍍膜機(jī)HiPIMS技術(shù)代表的是高功率脈沖磁控濺射，常見磁控濺射技術(shù)廣泛應(yīng)用于薄膜制備領(lǐng)域，裝飾鍍膜應(yīng)用領(lǐng)域和工具鍍膜應(yīng)用都比較常見，但磁控濺射處理技術(shù)有很多的局限性，例如磁控濺射靶功率密度受靶熱負(fù)荷的限制，即當(dāng)濺射電流較大時，過多的正離子對靶進(jìn)行轟擊可能使濺射靶過熱而燒損，濺射的能量有限金屬離化率不高等問題。近年來國內(nèi)外發(fā)展起來了一種高功率脈沖磁控濺射(HiPIMS))技術(shù)，大大弱化了這種限制。高功率脈沖磁控濺射的峰值功率是普通磁控濺射的100倍左右，濺射材料離化率極高，且這個高度離子化的束流不含大顆粒，正因如此HiPIMS可以很容易得到高質(zhì)量的膜層。
