高精密電子束蒸發鍍膜機是在高真空條件下，采用電子書轟擊材料加熱蒸發的方法，在襯底上鍍制各種金屬，氧化物、導電薄膜、光學薄膜、半導體薄膜、導電薄膜、光學薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬膜等，可鍍制混合物單層膜、多層膜或摻雜膜，可鍍各種高熔點材料。
在玻璃/PC/PMMA基片上形成高精度光學多層薄膜的精密真空鍍膜機；將滿足客戶需求的多種元件組合在一起，可以形成品質更加優良的薄膜；基片傘架采用中心旋轉方式(公轉)，減少產生振動和顆粒，使基片能夠穩定旋轉。
采用坩堝上沒有極片的電子束加熱方式作為蒸發源，可以穩定地形成多層膜；采用本公司獨有的比率控制法和多點在線監控，可以形成高精度且穩定的光學多層膜；可利用操作性良好的升降機來取出基片傘架。
使用均勻分布的高離子電流密度的離子源，搭載雙電子槍，多點和環型坩堝可鍍100層以上，利用自動蒸鍍控制系統實現全自動蒸鍍過程，工件架可選擇鐘罩式或行星式。
AR 膜（基材玻璃透過率＞91.5%）：1、420-680nm波段，單面平均透過率＞95%，反射率小于0.5（平均值）% ；2、雙面平均透過率＞98%，反射率小于0.5（平均值）%；
AS/AF膜測試標準：1、初始接觸角范圍為 115±5°；2、鋼絲絨耐摩擦測試標準：用 0000#鋼絲絨，面積為 10*10mm,行程 40 次/分，負載1Kg，5000 次往返摩擦后，接觸角大于 100°；3、 橡皮擦測試標準： 直徑 6mm 橡皮擦，行程 25 次/分，負載1Kg， 2500 次往返摩擦后，接觸角大于 100°；
備注：測試樣片玻璃需為經過精密拋光過的觸摸屏蓋板專用玻璃，表面光潔。
高精密電子束蒸發鍍膜機優勢有三點：提高沉積速率以實現更高產量，在半導體，光電和光子學領域實現高精度工藝，堅固耐用且易于維護
