離子鍍膜技術(shù)廣泛應(yīng)用于裝飾真空鍍膜機(jī)，硬質(zhì)涂層真空鍍膜機(jī)，連續(xù)式真空鍍膜機(jī)，汽車零部件真空鍍膜機(jī)等等，因其居于沉積速率快，摩擦均勻性好，膜層致密好，繞射性好等優(yōu)點(diǎn)，被市場(chǎng)青睞。下面匯成真空小編為大家詳細(xì)介紹一下離子真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)，希望能幫助到大家：
離子鍍是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)離子化，在氣體離子或蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用下，把蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物蒸鍍?cè)诠ぜ稀Ｆ渲邪ù趴貫R射離子鍍、反應(yīng)離子鍍、空心陰極放電離子鍍（空心陰極蒸鍍法）、多弧離子鍍（陰極電弧離子鍍）等。離子鍍把輝光放電、等離子技術(shù)與真空蒸鍍技術(shù)結(jié)合在一起，不僅明顯地提高鍍層的各種性能，而且大大擴(kuò)充了鍍膜技術(shù)的應(yīng)用范圍。離子鍍除兼有真空濺射的優(yōu)點(diǎn)外 ，還具有膜層的附著力強(qiáng)、繞射性好、可鍍材料廣泛等優(yōu)點(diǎn)。因此，近年來在國(guó)內(nèi)外得到了迅速的發(fā)展。離子鍍的基本原理是借助一種惰性氣體的輝光或弧光放電使金屬或合金蒸汽離子化。離子鍍包括鍍膜材料（如TiN、TiC）的受熱、蒸發(fā)、沉積過程。蒸發(fā)的鍍膜材料原子在經(jīng)過輝光區(qū)時(shí)，一小部分發(fā)生電離，并在電場(chǎng)的作用下飛向工件，以幾千電子伏的能量射到工件表面上，可以打入基體約幾納米的深度，從而大大提高了涂層的結(jié)合力，而未經(jīng)電離的蒸發(fā)材料原子直接在工件上沉積成膜。惰性氣體離子與鍍膜材料離子在工件表面上發(fā)生的濺射，還可以清除工件表面的污染物，從而改善結(jié)合力。
離子
真空鍍膜機(jī)和蒸發(fā)鍍膜機(jī)和磁控濺射鍍膜機(jī)采用的技術(shù)是各不相同的，這幾種鍍膜技術(shù)原理也各具優(yōu)勢(shì)，可根據(jù)其鍍膜工件和膜層選擇不同的鍍膜方式，從而達(dá)到市場(chǎng)需求。
