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鍍膜線解決方案

Solution
光掩膜版(鉻版)方案 Photomask(chrome)
客戶群體

半導體及相關配套生產廠商、PVD鍍膜加工企業

項目方案

為企業提供PVD鍍膜設備和鍍膜工藝技術

針對半導體行業產品的特點和不斷增長的客戶需求,不斷開發出多種設備技術和鍍膜工藝

Solutions and advantages.

解決方案及優勢

光掩膜是刻有微電路的高精度版,由表面純平并帶有一層鉻的石英板或玻璃板制作而成,蝕刻后的殘留鉻部分即為設計的微電圖。這種制版方式在掩膜行業稱為光透。

光掩膜用于芯片制造,主要是IC(集成電路)芯片,還應用于制作純平顯示器、薄膜磁頭以及PC板等。

光掩膜所起的作用類似于底片之于相片,光刻通過光掩膜在芯片上顯影。如果圖形通過掩膜版在芯片兩面多次顯影,這種方法就是熟稱的曝光,這個時候的掩膜也可稱為光罩。

在平整的玻璃板上鍍上金屬鉻薄膜,通過類似照相制版的方法制備,其制作過程就是典型的光刻工藝過程,包括金屬PVD沉積、涂膠、電子束光刻、顯影、鉻層腐蝕及去膠等過程。

鉻版主要應用于:

TFT-LCD、CF、CSTN-LCD、STN-LCD、TN-LCD、EL、OLED、PDP、VFD等平板顯示行業;

HDI、FPC等印制線路板行業;

IC Bumping、IC基板、導線架等IC相關行業;

MENS、SENSOR和ENODER等精細電子元器件行業。

recommended equipment.

推薦設備

Project site.

項目現場

鍍膜現場

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