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HCINLINE系列

透明導電膜鍍膜線

Transparent conductive film coating system
真空應用解決方案提供商
首頁 > 鍍膜線設備 > 太陽能光伏導電膜生產線
Large area transparent conductive film glass production line 太陽能光伏導電膜生產線

     本設備廣泛運用在太陽能電池上,透明導電膜作為減反射層和透明電極使用,可以提高太陽能的轉換效率,降低成本,無毒環保,膜層穩定,同時可以消除立式生產線無法大規模生產的弊端,可以大大提高生產量。

     設備采用大面積濺射技術,鍍膜機寬度大,可以同時處理很多基片,特別適用于極低成本、高生產率應用,該系統也適用于其他小尺寸和非常薄的基片。

     由于采用模塊化設計,鍍膜線可以配備旋轉磁控管,以濺射沉積高性能透明導電氧化物膜層或者多種其他材料,例如金屬和金屬氧化物,可以在真空狀態下或在基片進入真空狀態之前對基片進行預處理,比如對基片進行清洗或蝕刻。


優勢:

?采用閉環控制器的高反應濺射率
?出色的氣體分離技術
?靈活配置以滿足特定的生產需求
?3、5或7倍微調氣體分布以提高涂層均勻性
?優化的磁性配置,具有出色的均勻性和利用率
?兼容工業機器人的自動裝卸

Product Advantage.

產品特點
HCINLINE系列大面積透明導電膜生產線包括以下關鍵功能:
  • 技術成熟

    成熟的磁控濺射技術

  • 單獨間隔

    各自間隔的真空腔室設計

  • 靈活

    靈活配置載體傳輸系統

  • 溫度可控

    可靠加熱控制系統

  • 高效

    低成本的高生產率

  • 客制化

    靈活的動態設計

項目 性能
適用基材 M2、M4硅片
基材溫度 <150℃
ITO膜性能 透過率>90%
電阻率<4 × 10-4 Ω · cm
薄膜均勻性 ≤±5%
節拍 40~60s
稼動率 ≥90%
產能 5000~8000片/小時
項目 性能
適用基材 M2、M4硅片
基材溫度 <150℃
薄膜均勻性 ≤±5%
節拍 40~60s
稼動率 ≥90%
產能 5000~8000片/小時

Application cases.

應用案例
項目 性能
適用基材 M2、M4硅片
基材溫度 <150℃
薄膜均勻性 ≤±5%
節拍 40~60s
稼動率 ≥90%
產能 5000~8000片/小時

Application cases.

應用案例
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